盛美半导体表示,盛美的产品可完全覆盖 WLP 生产线的清洗设备、涂胶设备、显影设备、湿法刻蚀设备、湿法去胶设备,以及先进电镀设备。用于 WLP 的设备已获得国内本土厂商的广泛认可。
IT之家获悉,官方介绍,盛美的 Ultra C pr 湿法去胶设备设计高效、控制精确,提升了安全性,提高了 WLP 产能。该设备将湿法槽式浸洗与单片晶圆清洗相结合,能够在灵活控制清洗的同时,最大限度地提高效率,可单独使用,也可与公司专有的 SAPS 兆声波清洗设备一同使用,以清除极厚或者极难去除的光刻胶涂层。
盛美半导体表示,盛美的产品可完全覆盖 WLP 生产线的清洗设备、涂胶设备、显影设备、湿法刻蚀设备、湿法去胶设备,以及先进电镀设备。用于 WLP 的设备已获得国内本土厂商的广泛认可。
IT之家获悉,官方介绍,盛美的 Ultra C pr 湿法去胶设备设计高效、控制精确,提升了安全性,提高了 WLP 产能。该设备将湿法槽式浸洗与单片晶圆清洗相结合,能够在灵活控制清洗的同时,最大限度地提高效率,可单独使用,也可与公司专有的 SAPS 兆声波清洗设备一同使用,以清除极厚或者极难去除的光刻胶涂层。